特种气体是由两大类气体组成的。
一类为单元高纯气体,另一类为混合气体。
到目前为止,特种气体中单元纯气体共有260种。
其中:
电子气体共114种,占总数的43.8%(实际常用的约44种);
有机气体共65种,占总数的25%;
无机气体共35种,占总数的13.4%;
卤碳素气体共29种,占总数的11%;
同位素气体共17种,占总数的6.8%。
特种气体的用途
本文专门介绍这260种单元高纯特种气体的用途。
1.氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序；电器、食品包装、化学等工业也要用氮气。
2.氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、校正气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。
3.氩气-Ar,>99.999,用作标准气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、氮化、喷射、等离子干刻、载流、退火、搭接、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。
4.氢气-H2,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学、冶金等工业中也有用。
5.氦气-He,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。
6.氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外,用于水净化、纸浆与纺织品的漂白、下业废品、污水、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。
7.氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等。
8.氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采矿、橡胶等工业。
9.氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
10.一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。
11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、在线仪表标推气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、载流工序警另外,还用于特种混合气、发电、气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理、饮料充气、烟雾喷射剂、食品贮存保护气等。
12.氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。
13.硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。
14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延丫、化学气相淀积等工序；另外,用作溶剂、有机物的氯化剂、香料的浸出剂、纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。
15.氰化氢-HCN,>99.9,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；制备氢氰酸溶液,金属氰化物、氰氯化物；也用于制备丙烯睛和丙烯衍生物的合成中间体。
16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半寻体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用作氟化剂。
17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正气；用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸盐和噻唑的合成。
18.碘化氢-HI,>99.95%,用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；还用于氢碘酸溶液制备。
19.嗅化氢-HBr,>99.9%,用于半导体制备工艺中等离子干刻工序；用作还原剂,制备有机及无机澳化合物。
20.硅烷-SiH4,>99.999%,电阻率>100Ω/cm2,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积等工序。
21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半导体制备工艺中化学气相淀积。
22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序；磷烷与二氧化碳混合的低浓度气体,可用于杀死粮仓的虫卵和制备阻火化合物。
23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序。
24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、氧化等工序；用于有些化学工业合成过程:如氢硼化反应(即生成醇类),有机功能的衰退,制备较高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。
25.锗烷-GeH4,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序。
26.锑烷-SbH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序。
27.四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。
28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；还用于冶金工业的热处理,化学工业中制备乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇类、乙醛等。
29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用于燃料、冷冻剂、制备乙烯与丙烯的原料。
30.硒化氢-H2Se,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。
31.碲化氢-H2Te,>99,999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。
32二氯二氢硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。
33.三氯氢硅-SiHCl3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。
34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。
35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。
36.二甲基锌(CH5)2Zn,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。
37.二乙基锌(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。
38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中扩散,锗的外延生长和离子注入工艺；PCl3是有机物的良好氯化剂；也用于含磷有机物的合成。
39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中的外延和离子注入。
40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等离子干刻、扩散；作硼载气及一些有机反应的催化剂；精炼镁、锌、铝、铜合金时从溶化金属中除掉氮、碳、氧化合物。
41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。
42.四氯化锡-SnCl4,>99.99%,用于外延、离子注入。
43.四氯化锗-GeCl4,>99.999%,用于离子注入。
44.四氯化钦-TiCl4,>99.99%,用于等离子干刻。
45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、离子注入。
46.五氯化锑-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、离子注入。
47.六氯化钥-MoCl6,>99.9%,用于化学气相淀积。
48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中离子注入工序和制备光导纤维。
49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、离子注入。
50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于扩散工序。
51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于离子注入；另外,可作载气、某些有机反应的催化剂；精炼镁、锌、铝、铜合金时从熔化金属中除掉氮、氧、碳化物。
52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、离子注入工序；另外用作氟化剂。
53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。
54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、离子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反应堆排放废气中氮的测定。
55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等离子干刻工序；冷冻剂、空调均可用。
56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等离子干刻工序;低温冷冻剂。
57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等离子干刻工序;火箭推进剂、氟化剂。
58.三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等离子干刻工序;还用于空调、低温冷冻及灭火剂。
59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于离子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是浓缩含有96%同位素BF3);还用于制备光导纤维。
60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等离子干刻工序;在很低温度下作为低温流体用;也用于中性及惰性气体。
61.四氟化硫-SF4,>98%,用于等离子干刻工序;氟化剂、表面处理剂。
62.四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化学气相淀积工序;制备氟硅酸及其盐类。
63.四氟化锗-GeF4,>99.999%,用于离子注入工序。
64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用于离子注入、等离子干刻工序;另外,用作氟化剂,聚合、烃化及脱烃化反应、烃类裂化反应时作催化剂。
65.五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等离子干刻工序;另外,作冷冻剂、烟雾喷气剂。
66.五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、离子注入工序,氟化剂。
67.六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等离子干刻工序;用作冷却、冷冻剂和空调;单体生产的原料;化学反应中的添氟剂、电器设备的绝缘剂。
68.六氟化硫-SF6,>99.99%,用作标准气;用于化学气相淀积工序;由于在高电压下具有很高的电阻,用作电器设备的绝缘剂;检漏气体,实验室中作色谱仪的载气。
69.六氟化钨-WF6,>99.99%,用于化学气相淀积工序;强烈的氟化剂;也用作钨载体。
70.六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等离子干刻工序。
71.六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。
72.六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。
73.六氟化铼-ReF6,>97%,用于离子注入工序;氟化剂。
74.八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等离子干刻工序;与氟利昂相混合作冷冻剂;高压电的绝缘剂。
75.八氟环丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等离子干刻工序;用作冷却剂、冷冻剂;作电器和电子设备的气体绝缘。
76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等离子干刻工序;也可与CF4相混用。
77.三甲基铝-(CH3)3Al,>99.999%,用于化学气相淀积工序;金属的有机合成。
78.三甲基镓-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。
79.三甲基锑-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。
80.三甲基锢-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。
81.三乙基铝-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。
82.三乙基镓-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。
83.四乙基铅-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化学气相淀积工序。
84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等离子干刻工序。
85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作标准气、校正气、医疗气;用于半导体器件制备工艺中热氧化工序;另外,用于金属的脱脂剂和脂肪、油、石蜡等萃取剂,衣服干洗,冷冻剂,杀菌剂。
86.甲烷-CH4,99.999%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;作燃料、宇宙飞船中气体电池。
87.甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作标准气、校正气;用于有机合成;作为喷气燃料添加剂,杀真菌剂和蛋氨酸的中间体。
88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促进剂、药物、染料和炸药等,并作溶剂、有机合成、醋酸人造纤维。
89.甲醇-CH3OH,>99.9%,用作标准气,与空气混合后作校正气;用于制备甲醛和农药乡用于有机物质的萃取剂和酒精的变性剂。
90.二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化剂;在溶液中作浮洗.剂、汽油稳定剂、橡胶加速剂等。
91.二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化学工业中用作配制合成橡胶和甲硫醚;用作甲基剂、萃取剂、溶剂;也用作制冷剂。
92.乙炔-C2H2,>99.9%,用作标准气、校正气;化学工业中的中间体,如制备乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光谱。
93.乙烯-C2H4,>99.99%,用作在线仪表标准气、标准气、校正气;是化学
工业合成中的重要原料,生产塑料的中间体,生产乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷冻剂、某些水果、蔬菜生长的加速剂。94.氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作标准气、校正气、医疗气;与CO2、R11、R21相混合作消毒剂,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化学工业中用作中间体,生产液体或固体聚乙二醇、乙醇胺类等。
95.溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有机合成的中间体,用聚合法与共聚法来制备塑料。
96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作为下列化学工业制备中的中间体:着色剂,电镀池、硫化增速剂等;还用于制药、表面活性剂、萃取剂。
97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生产塑料时作为一种重要的单体,如泰氟隆等。
98.乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正气;用于制备酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成树脂等。
99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正气、溶剂。
100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正气、溶剂。
101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正气;用于溶剂,制备染料、涂料、药物、合成橡胶等。
102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙酰化剂和化学试制。
103.1-羟亚乙基-1,1双磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,简称HEDPA,用于特殊的洗涤、纺织漂白分离剂、磨料和环境卫生;在石油和气田中用作防腐剂。
104.环丙烷-(CH2)3,>99%,用于有机合成;医药上作麻醉剂。
105.甲基乙炔-C3H4>99%,用作在线仪表标准气、校正气;用于制备丙酮;化学工业中作合成中间体。
106.六氟丙酮-CF3COCF3,>99.9%,是强烈的反应气,常与脂肪酮发生化学反应,用这些酮类可制备不同的产品,如稳定的液体、溶剂、水泥、单体、共聚物,以及农业及药物产品。
107.三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作标准气,溶液中含25%的三甲胺可作抗组胺治疗处理;在化学工业中作中间体,用来生产杀虫剂、润湿剂、发泡剂、合成树脂等表面活性剂。
108.丙烯-C3H8,>99.9%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;在化学工业上用作制备异丙醇、氧化丙烯、氧基醇类、四氯化碳、聚丙烯等。
109.丙二烯-C3H4,99%,在线仪表标准气;用于有机合成中间体。
110.氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又称1,2-环氧丙烷),用于制备丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纤维素、硝酸纤维素和树脂等的溶剂。
111.甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作标准气;用于有机合成中间体;塑料和合成树脂制备时的原料及共聚物的生产。
112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有机合成中间体。
113.丙酰氯-CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制备盐酸、丙酸;用作氧化剂。
114.正丁烷-C4H10,>99.99%,用作标准气、校正气;用作燃料,商业上主要和异丁烷混合用;化学工业中作制备中间体:乙烯、丙烯、丁烯等;作烟雾喷射剂;充入温度计球作标准蒸汽压型的压力表;与氦混合用作电离粒子计算器。
115.异丁烷-iC4H10,>99.99%,用作标准气、校正气;用途同(114)。
116.乙基乙炔C4H5,>99%,用作标准气、校正气;化学工业中作为合成中间体。
117.环丁烷-(CH2)4,>99%,作为液体溶剂,或与其它溶剂混合使用;也可作为合成中间体。
118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作标准气、校正气;用于有机化合物的制备中间体;催化脱氢生成丁二烯。
119.顺丁烯-2C4H8,>99%,用作标准气、校正气;用于有机化合物的制备中间体;催化脱氢生成丁二烯、酸式硫酸盐,加水生成丁醇-2等;也可用作溶剂。
120.反丁烯-2-C4H8,>99%,用作标准气、校正气;用途同(119)。
121.顺与反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正气;用途同(119)。塑料和树脂,生产尼龙-6;也是火箭燃料组成部分。
122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正气;用聚合法和共聚法来生产合成橡胶、塑料和树脂,生产尼龙-66;也是火箭燃料组成部分
123.异丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正气,用于有机中间体,使氧化产生丙酮和甲酸,在液相或气相中催化使生成双异丁烯等;也可用来制备合成橡胶,有很高的耐酸碱度;是良好的绝缘体。
124.八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有机合成中间体。
125.二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接触到氧化剂,反应剧烈;与二氧化碳混合,遇到汞会产生爆炸反应。
126.正戊烷-C5H12,>99%,用作标准气、校正气;作溶剂及合成中间体。
127.异戊烷-iC5H12,>99%,用作校正气;用途同(126)。
128.2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生产异丁烯的原料,用于生产合成丁烯橡胶。
129.3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有机合成中间体;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。
130.特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制备氯化氢与特戊酸;可与强氧化剂反应。
131.苯-C5H6,>99.999%,用作标准气、校正气、零点气;是染料、塑料、合成像胶、合成树脂、合成纤维、合成药物和农药的原料。
132.己烷-C6H14,>99.9%,用作标准气、校正气;作溶剂。
133.三乙基铝三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成中间体;烯类聚合催化剂,芳烃衍生物聚合的催化剂。
134.环己烷-C6H12,>99.99%,用作标准气;用于制备环己醇和环己酮;用于合成耐6;在涂料工业中广泛用作溶剂,也是树脂、脂肪、石蜡、油类的极好溶剂。
135.己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制备氯化氢与肥酸。
136.甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零点气、校正气;用于制造糖精、染料、药物和炸药等;也用作溶剂。
137.苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正气;用于制树脂、塑料、合成橡胶等。
138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制备氯化氢和2-乙基己酸。
139.辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是氧化剂;可用于制备盐酸与辛酸。
140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作还原剂。
141.壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制备盐酸与壬酸。
142.新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制备盐酸与新癸酸。
143.三异丁基铝-C12H27,Al,(简称TIBA),>99.99%,用于合成中间体,是聚合烯类和二烯类的催化剂。
144.十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制备盐酸与月桂酸。
145.十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,＞99.9%,用于制备盐酸与硬醋酸。
146.酚酞黄-C20H14O4,>99.9%,医疗用作泻药。
147.空气(或合成空气)-21%O2,79%N2,用作零点气,超零点级空气中含CnHm<0.lppm,零点级空气中含CnHm<0.2ppm。零点级空气经常用于色谱仪火焰离子化检定器和总碳量分析仪中的氧化剂。
148.仲氢-H2,>99.99%,用作火箭推进剂;核工业中用于气泡室;冷电子工程低温液态供固体电路研究用。
149.纯水-H2O,>99.9999%,用作标准气、校正气。
150.氖-Ne,>99.999%,用作标准气、特种混合气;用于充发光灯泡、电子管、讯号灯、等离子体研究、荧光灯中启动器、火花室、盖革一弥勒管、
激光器;用作低温冷却剂。
151.氪气-Kr,>99.995%,用作标准气、特种混合气、灯泡与电子工业用气。
152.氙气-Xe,>99.995%,用作标准气、特种混合气,用于电光源、电子工业、充填闸流管和半波整流管。
153.溴气-Br2,>99.99%,用于化学工业中制备澳化氢和其它嗅化合物、氧化剂、实验试剂;也用于染料和摄影工业。
154.臭氧-O3,>99.99%,用作医疗气,用于外科设备的消毒,人类用水和游泳池的净化,工业废品的处理,污物消毒;纺织纤维、纸浆和糖类的漂白,樟脑的制备,矿物油及其衍生物的净化。
155.氰气-C2N2,>99%,用作焊接与切割耐热金属,与氧化剂、臭氧和氟气混合后作火箭与导弹推进剂;医学上作薰蒸剂;用于许多有机合成中的媒介物。
156.氯化氰-ClCN,>99%,用于有机合成;与薰蒸气体相混合可作热源。
157.氟化氢-HF,>99.9%,用于制备氟化物、氟气;在异构化、冷凝过程、聚合、干燥、水解反应等作为催化剂;在有些有机或无机反应中作为氟化剂。
158.亚硝酰氯-NOCl,>99%,用于有机化合物的重氮化、硝化、氯化作用;也用于石油熟化剂。
159.过氟二氯氧ClO3F,>99%,用于与氟卤素类相混合,成为火箭发动机的液态氧化剂;也可供街族化合物作选择性的氟化剂。
160.碳酰氯-COCl2,(光气),>99.9%,用于染料、药物、除荞剂、杀虫剂、合成泡沫、树脂和聚合等有机合成;还用作氯化剂。
161.硫酰氟-SOF2,>99.5%,用于制备氟碳化合物;是优良的杀虫薰蒸剂,用于集装箱、农作物种子、林木种子的薰蒸,仓库、古建筑、园林果木蛀干性害虫及白蚁的防治,以及文物档案的保护;也用作催化剂。
162.羰基镍-Ni(CO)4,>99.95%,用于制备高纯镍;制成金属镜及很薄的镍箔;是碳化反应中有效的催化剂。
163.羰基铁-Fe(CO)5在有的文献中写成Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作铁的载体,在汽油中作抗爆剂。
164.磷酸-H3PO4,>99.99%,用作校正气;用于制磷酸盐、甘油磷酸醋、磷酸按肥料;还作化学试剂。
165.过氙酸钠-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,强氧化剂,可测定水中汞含量。
166.一氧化碳-CO,>99.995%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;与氢和其它气体混合作燃料气;用于从含有铁、钻和铜的矿砂中回收镍;也可用于制备酸类、醚类和醇类化学品。
167.二氧化硫-SO2,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;用于啤酒、葡萄酒、肉类的防腐;硫化物和氧硫化物的制备;油类和食品的漂白剂;硫化纸浆的制备;制冰工业的冷却剂。
168.二氧化氮-NO2(N2O4),>99.9%,用作标准气;用于一些氧化反应的催化剂;在丙烯酸盐类精馏时用于防止聚合,用作有机物的硝化剂、氧化剂、火箭燃料一、面粉漂白剂。
169.二氟化氧-OF2,>99.5%,用作氧化剂,是高能火箭推进剂系统中的组成部分。
170.三氧化二氮-N2O3,>99.5%,与碱化合生成纯碱亚硝酸盐类;在特殊燃料系统中作氧化剂,也用于萜烯类的鉴定。
171.三氧化氙-XeO3,>99.99%,用于通过氧化还原代替测定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。
172.三氧化硫-SO3,>99.99%,用于化学工业中制备硫酸与发烟硫酸;是硫化剂;也用于染料工业。
173.三氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭导弹推进剂,当接触到燃料时(自发能力)能使其立刻开始反应;也用作油井管道切割剂,管道深达2公里也可用它来切断管子。
174.三氟化溴-BrF5,>99.5%,用作氟化剂和电解溶剂;也用于火箭导弹的推进剂。
175.四氟化氮-N2F4,>99.9%,强氧化剂,可制备三氟化氮。
176.四氟化氙-XeF4,>99.9%,可用于制备过氙化合物和三氧化氙溶液。
177.五氟化溴-BrF5,>99%,用作氟化剂;也用于火箭导弹的推进剂。
178.五氟化氯-ClF5,>99%,强烈的氧化剂,腐蚀性比三氟化氯小,可制备有机及无机氟化物;可作空间推进器的助燃剂。
179.五氟化碘-IF5,>99%,用作氟化剂和燃烧剂。
180.六氟化钼-MoF5>99.9%,强烈的氟化剂,也用于钥的载体。
181.六氟化碲-TeF5,>99.9%,用作氟化剂和啼的载体。
182.氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,>99.95%,用于冷冻工业、空调、溶剂
、滑冰场、盐水和海水装置、烟雾喷射剂、发泡剂、检漏、纺织品的干洗。
183.二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2,>99.9%,用作标准气、校正气;用于低温空调、食品贮藏、冷冻工业、烟雾喷射剂、检漏、膨胀剂、气相绝缘材料。
184.二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2,>99.9%,用于石油、丙酮、二硫化碳生产中及电器着火时的灭火剂。
185.二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2,>99.9%,用于快速聚合;用作灭火剂。
186.二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F,>99.9%,用于气候很热时的空调、冷冻剂、溶剂、烟雾喷射剂、化学媒介物。
187.二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2,>99.9%,用于冷却和空调;在低温喷雾特
殊情况下作烟雾喷射剂;氟化聚合物的生产和检漏。
188.二氟甲烷(R32)-CH2F2,>99%,用作冷冻剂,与五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷冻剂。
189.氯甲烷(R40)–CH3Cl,>99.5%,用作冷冻剂,局部麻醉处理;气溶胶工业中当作喷射气体;有机合成中用作甲基剂;作溶剂或萃取剂。
190.溴甲烷(R40B1)-CH3Br,>99.9%,用于有机合成(着色剂)中甲基剂;低温溶剂、冷冻剂;土壤与种子的薰蒸剂。
191.氟甲烷(R41)-CH3F,>99.9%,以混合物用作非燃烧性的烟雾喷射剂。
192.l,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗称TTE),>99.9%,用作冷冻剂、传热介质;制备三氟氯乙烯(R1113)的中间媒介物。
193.1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4,>99%,用作冷冻、冷却、空调,单独与二氟二氯甲烷(R12)混合作为化妆品烟雾喷射剂。
194.1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,>99.5%,用作溶剂、灭火剂,与其它氟碳化合物相混合作喷射剂。
195.五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,>99.9%,用作冷冻剂、烟雾喷射剂。
196.二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,>99%,用作冷冻剂、溶剂、与非燃烧性的卤碳类化合物相混合作喷射剂。
197.三氟乙烷(R143)-C2H3F3,>99.9%,用作冷冻剂。
198.1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2,>99%,用作冷冻剂、烟雾喷射剂、有机合成中间媒介物。
199.氯乙烷(R160)-C2H3Cl,>99.9%,用于局部麻醉的医疗处理,外科和皮肤科的喷雾医疗;在染料工业中当作乙基剂、冷冻剂、溶剂、杀虫剂的生产。
200.氟乙烷(R161)-C2H5F,>99.9%,用于合成中间媒介物。
201.R-12与R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷冻剂、空调。
202.R-22与R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷冻剂、空调、喷雾。
203.R-23与R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷冻剂、空调。
204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作绝缘气体。
205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制备润滑脂、油类、
蜡类、塑料的聚合剂,聚三氟氯乙烯的单体。
206.三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用于聚合反应和化学中间体。
207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,＞99.9%,用于化学合成中间体。
208.1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一个很重要的单体,用于生产塑料及弹性体。
209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作标准气;用作聚合剂、有机合成的中间体。
210.氟乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合剂、有机合成的中间体。
211.氦-3–He3,>99.99%,充计数管;作稀释制冷机超低温冷源,可达4.5×10-3K。
212.氦-4-He4,>99.99%,在空间应用的低温火箭燃料、核反应堆中重水及所有常温与低温的液体均可用氦-4作压送气。
213,氘-D2,>99.95%,在核工业研究中应用在氖核加速器中作为抛射体;当放射丫能射线时作为中子源;在研究化学反应时,包括氢化合物,可作为轨跡用;用于生产重水(D2O)。
214.氚-T2,>99.95%,用作标准气,控制每升为1000微居里,有很广泛的活泼性,与氖氩混合作为载气,可用于检测微量氮气及其它稀有气体。’
215.氧-18-O218,>99%,可制备H218O、D218O、S18O2。
216.氮-15-N215,>99%,可制备15NH3、16NO、15NO等。
217.氩-36–Ar36,>99.99%,计量值用。
218.氩-40-Ar40,>99.99%,计量值用。
219.氖-20Ne20,>99.99%,计量值用。
220.氖-22Ne22,>99.99%,计量值用。
221.氪-85-Kr85,>99.99%,标准气,控制每升为10微居里,充灯泡用。
222.氪-86-Kr86,>99.9%用作标准气。
223.氙-133-Xe133,>99.9%,充灯泡用。
224.碳-13-C13,>99%,可制备13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225.碳-14-C14,>99%,用作标准气,控制每升为100微居里。
226.碳-18-C18,>99%>99%,可制备C18O2、C18O。
227.硫-35-S35,>99%,用作标准气,控制每升为100微居里。
最近发现的12种,前10种为电子气,后2种为有机气体。
1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等离子干刻。
2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于热氧化。
3.二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于外延、化学气相淀积。
4.二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于外延、化学气相淀积。
5.三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用于外延、化学气相淀积。
6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用于等离子干刻。
7.六氟化硅-SiF2,>99.9%,用于等离子干刻。
8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等离子干刻。
9.异十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等离子干刻。
10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用于等离子干刻。
11.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。
12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。
1.二甲基镉-(CH3)2Cd,纯度＞99.999%,电子气,用于MOCVD。
2.二乙基镉-(C2H5)2Cd,>99.999%,电子气,用于MOCVDo
3.四甲基锡-(CH3)4Sn,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
4.四乙基锡-(C2H5)Sn,>99.999%,电子气,_用于MOCVD。、
5.三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
6.三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
7.三乙基锑-(C2H5)3Sb,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
8.二乙基铟-(C2H5)2ln,>99.9999%,电子气,用于MOCVD。
9.二甲基铟-(CH3)2In,)99.9999%,电子气,用于MOCVD。
10.二乙基镁-(C2H5)2Mg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
13.三甲基磷-(CH3)3P,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
15.三异丁基铝-(i-C4H9)3AI,＞99.9999%,电子气,用于MOCVD。
16.丙硅烷-Si3H8,>99%,电子气,用于CVD。
17.三氯化铝-AlCl3,>99.999%,电子气,用于外延。
18.五氟化钽-TaF5,>99.9%,电子气,用于离子注入。
19.五氟化铊-TlF5,>99.9%,电子气,用于离子注入。
20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正气,用作冷冻剂。
21.氟乙烯-C2H3F,>99.9%,校正气,用于制聚乙烯树脂和其它单体的共聚物。
