气体的使用在半导体制程中一直扮演着重要的角色,特别是半导体制程目前已被广泛的应用于各项产业,凡举传统的ULSI、TFT-LCD到现在的微机电(MEMS)产业,皆以所谓的半导体制程为产品的制造流程,其中的制程包括如干蚀刻、氧化、离子布植、薄膜沉积等皆使用到相当多的气体,而气体的纯度则对组件性能、产品良率有着决定性的影响,气体供应的安全性则关乎人员的健康与工厂运作的安全。
气体的使用在半导体制程中一直扮演着重要的角色,特别是半导体制程目前已被广泛的应用于各项产业,凡举传统的ULSI、TFT-LCD到现在的微机电(MEMS)产业,皆以所谓的半导体制程为产品的制造流程,其中的制程包括如干蚀刻、氧化、离子布植、薄膜沉积等皆使用到相当多的气体,而气体的纯度则对组件性能、产品良率有着决定性的影响,气体供应的安全性则关乎人员的健康与工厂运作的安全。