镀金膜厚测试仪随着半导体制造技术向亚微米及深亚微米方向发展,各种精密测试设备也层出不穷。以精密设备为主的测试技术日益成为半导体制造业发展过程中的一大研发主题。在集成电路产业“十一五”专项规划中,也把测试技术作为发展重点之一,定位为适应更高要求的主流技术。膜厚测试仪作为半导体制造工艺过程中最基本、最常用的测试设备,当工艺技术发展到亚微米及深亚微米时,对它的精密度要求越来越高。
经过20多年的努力, 现在的x荧光膜厚测试仪能够准确的测量微小面积的镀层厚度,测量精度达到纳米级,已被全世界电子零部件、印制电路板、汽车零部件、各种电镀产品生产及相关厂商广泛使用和认可。
镀金膜厚测试仪规格描述:
1 X射线激发系统:垂直上照式X射线光学系统。
2 快速、精确的分析:大面积正比计数探测器和博曼仪器50瓦微聚焦X射线光管(X射线光束强度大、斑点小,样品激发佳)相结合,提供最佳灵敏度
3 准直器程控交换系统:可同时装配4种规格的准直器。
4 卓越的长期稳定性:自动热补偿功能测量仪器温度变化并做修正,确保稳定的测试结果
5 例行进行简单快速的波谱校准:可自动检查仪器性能(例如灵敏性)并进行必要的修正,坚固的工业设计,可在实验室或生产线上操作。
6 简单的元素区分:通过次级射线滤波器分离元素的重叠光谱,性能优化
7 可分析的元素范围大:预置800多种容易选择的应用参数/方法
8 测厚范围可测定厚度范围:取决于您的具体应用,基本分析功能采用基本参数法校正。
9 样品种类:镀层、涂层、薄膜、液体(镀液中的元素含量)
联系人: 舒翠
手机: 13602568074
电话: 0755-29371655
传真: 0755-29371653
邮箱: sc@kinglinhk.net
地址: 宝安区沙井北环大道110号新桥综合大楼502