昭和电工1月8日宣布：为了强化电子材料用高纯度气体事业，决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司（以下简称“SSE”）的旁边取得第二工厂建设用地，建设高纯度N2O（一氧化二氮）和高纯度C4F8（八氟环丁烷）的生产设施，以及高压气体危险品仓库。第二工厂的建设内容包括1000吨/年高纯度一氧化二氮和600吨/年八氟环丁烷，拟于2021年下半年投产。
高纯度N2O主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体，高纯度C4F8主要是这种氧化膜的微细加工（蚀刻）时的特种气体。由于第5代移动通信（5G）等信息通信领域的发展，以及中国政府的产业培育特气网政策，预计今后中国的半导体及显示屏市场（有机EL电视机等）将会扩大。
从该公司的年产能来看，一氧化二氮将比此前增加约5成，达到2800吨，八氟环丁烷将增至2.5倍的1250吨。
据了解，昭和电工除了在日本生产这两种产品之外，还在韩国生产一氧化二氮，在上海生产八氟环丁烷。由于预计台湾的半导体市场同样也会扩大，子公司“台湾昭和化学品生产股份有限公司”也将新建年产150吨高纯度C4F8的生产设施（计划2020年春投产）。本次在上海和台湾的投资总额约为30亿日元。
据公开资料报道，昭和电工曾表示该公司在一氧化二氮方面的全球份额为1成，八氟环丁烷为4成左右。
文章来源：日经中文网
