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制造商
主营:公司开发的主要设备有:工模具硬质涂层镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、多弧离子镀膜设备、磁控溅射复合多弧离子镀镀膜设备、连续线式磁控溅射镀膜生产线、光学镀膜设备、CVD和PECVD化学气相沉积设备、ICP刻蚀设备和ALD原子层沉积、(超)高真空系统、多工位高真空排气台、高真空分子泵机组、多工位检漏系统、真空腔体及管道、高材料利用率(材料利用率超过40-60%以上)矩形平面磁控溅射阴极、产业用旋转磁控溅射阴极(材料利用率达到80%以上)、线性离子源、多弧阴极、多弧过滤阴极和多弧旋转柱状阴极、真空零配件阀门、检漏服
地址:上海
郑战伟
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